[자연과학] 實驗(실험)보고서 - 박막 實驗(실험)
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작성일 20-05-04 23:34
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따라서 본 연구에서는 magnetron plasma 자체에 대한 수치해석에 주안점을 두고 아울러 bulk…(drop)
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설명
실험결과/기타
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다. magnetron...
목 차
Ⅰ. 서 론
1. experiment(실험)하는 목적
Ⅱ. 본 론
1. 이론(理論)적 배경
1` 플라즈마란
2` 진공이란
3` Sputter
4` 왜 저항 측정(measurement)을 하는가
2. experiment(실험) 방법
3. experiment(실험) 결과
Ⅲ. 고 찰
Ⅳ. 참 고
Ⅰ. 서 론
1. experiment(실험) 목적
현재 magnetron sputter는 반도체, LCD 등을 포함하는 microelectronics 산업에서 박막 형성을 위한 주요 장비로 널리 쓰이고 있으며, 소자의 고집적화 및 대형화 추세에 따라 그 이용가치는 더욱 증대되고 있따 본 연구에서는 TFT-LCD용 color filter제조시 ITO 박막 형성을 위해 사용하는 magnetron sputter내부의 플라즈마 분포 및 ion kinetic energy에 대한 해석을 실시 하였으며, ITO target의 erosion형상의 원인(原因)을 experiment(실험)결과와 비교하였다.
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목 차
Ⅰ. 서 론
1. experiment(실험)하는 목적
Ⅱ. 본 론
1. 이론(理論)적 배경
1` 플라즈마란
2` 진공이란
3` Sputter
4` 왜 저항 측정(measurement)을 하는가
2. experiment(실험) 방법
3. experiment(실험) 결과
Ⅲ. 고 찰
Ⅳ. 참 고
Ⅰ. 서 론
1. experiment(실험) 목적
현재 magnetron sputter는 반도체, LCD 등을 포함하는 microelectronics 산업에서 박막 형성을 위한 주요 장비로 널리 쓰이고 있으며, 소자의 고집적화 및 대형화 추세에 따라 그 이용가치는 더욱 증대되고 있따 본 연구에서는 TFT-LCD용 color filter제조시 ITO 박막 형성을 위해 사용하는 magnetron sputter내부의 플라즈마 분포 및 ion kinetic energy에 대한 해석을 실시 하였으며, ITO target의 erosion형상의 원인(原因)을 experiment(실험)결과와 비교하였다. magnetron sputter은 target에 가해지는 기본 전압에 의해 target과 shield 혹은 target과 substrate 사이에서 생성될 수 있는 플라즈마 사이의 전위차에 의해 가속된 이온들이 target 표면과 충돌하여 이차 전자방출을 일으킴과 동시에 target표면에서 sputtering을 일으키고, 이들 sputtered된 중성의 원자들이 substrate로 날아가 박막을 형성하는 원리로 작동된다 이 때 target에서 방출되는 이차전자들은 영구자석에 의한 자기장효율에 의해 target 근처에 갇히게 되어 중성 기체분자들과 이온화reaction response을 통해 플라즈마를 유지하고 그 밀도를 높혀주는 역할을 담당하게 된다 즉 낮은 압력 및 기본 전압에서도 플라즈마 밀도를 높일 수 있고 sputtering 현상 자체를 수치묘사할 수 있는 정량적인 모델은 아직까지 명확하게 정립되어 있지 않다.
